全薬工業株式会社 研究開発センター
Zenyaku Kogyo Research And Development Center
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頭井 秀和、水野 悠一郎、チン シャンリン、河野 信(日建設計)
ラボを閉じ、研究所を開く
研究開発拠点の移転新築計画である。本計画では「敷地全体を閉じる」という既成の研究施設の形式から、「ラボ部分を閉じ、研究所全体としては開かれている」という形式へ変換することを試みた。
オフィス機能・ラボ機能を共有化し、分野の垣根を超えた創造的な環境を創出するとともに、天井に映る風景が建築とまちとをつなぐインターフェイスとなることで、地域と共生する施設を目指した。
Hidekazu Zui, Yuichiro Mizuno, Shan Lin Chin, Shin Kawano (NIKKEN SEKKEI LTD)
This is a relocation and new construction plan for a research and development center. In this project, we tried to change the traditional design of the existing research facility to an updated style of “closed laboratory zone but open research facilities”. It was to make a creative environment sharing and improving functionality of office and laboratory to enhance regional development, but also having the landscape reflected on the ceiling becomes an interface between the surrounding and the architecture.
Architect
頭井 秀和
(日建設計)1985年千葉県生まれ/2010年早稲田大学大学院修了後、日建設計入社/現在、同社・設計監理部門アソシエイトアーキテクト
水野 悠一郎
(日建設計)1982年大阪府生まれ/2011年東京藝術大学大学院修了/D.Jungling und A.Hagmann Architectenを経て、2015年日建設計入社/現在、同社・設計監理部門アーキテクト
チン シャンリン
(日建設計)1991年マレーシア生まれ/2017年東京工業大学大学院修了後、日建設計入社/現在、同社・グローバルデザイン部門アーキテクト
河野 信
(日建設計)1971年埼玉県生まれ/1994年東京理科大学卒業後、日建設計入社/現在、同社・設計監理部門ダイレクターアーキテクト
DATA
名称 全薬工業株式会社 研究開発センター
所在地 東京都八王子市
主要用途 研究所
建築主 全薬工業
●設計
設計者:日建設計
建築:頭井秀和・水野悠一郎・チン シャンリン・河野 信/日建設計
構造:大竹 透・瀧口真衣子・片山紗佳・仁井田美幸/日建設計
電気:森口勝矢/日建設計
空調衛生:野々瀬恵司・大浦理路/日建設計
土木:松本節男/日建設計
ランドスケープ:岩田友紀・岩井都夢/日建設計
家具:石川暢子・中院麻央・張 田・湯本 悠/日建スペースデザイン
●施工 大林組
●面積
敷地面積:16,733.31㎡
建築面積: 4,763.72㎡
延床面積:13,895.02㎡
建蔽率:28.47%(許容70%)
容積率:81.80%(許容200%)
●高さ
最高の高さ:26.060 m
軒高さ:21.400 m
●構造
鉄骨造 鉄骨鉄筋コンクリート造(研究棟)
鉄筋コンクリート造(危険物倉庫棟)
●期間
設計期間:2017年4月~2019年1月
施工期間:2019年7月~2021年2月
●掲載雑誌 ディテール2022年4月号・7月号
GA JAPAN 172、日経アーキテクチュア2022年8月25日号